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邁可諾技術有限公司
主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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邁可諾技術有限公司
主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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| 產(chǎn)品圖片 | 產(chǎn)品名稱 | |||
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UNIXX-SERIES德國osiris顯影機：DEVELOPER 簡單介紹：德國osiris顯影機：DEVELOPER，設計用于：顯影、清潔和干燥。晶圓顯影機在半導體制造和微納加工領域起著至關重要的作用，幫助實現(xiàn)微電子元件的精密制造和微米級結(jié)構(gòu)的加工。 產(chǎn)品型號：UNIXX-SERIES 所在地：武漢市 更新時間：2024-05-17 |
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UNIXX S 30 D顯影機 簡單介紹：UNIXX S 30 D 顯影機是應用于顯影工藝的設備，適用的基板尺寸為2英寸到12英寸的 圓片和最大到9英寸x9英寸的方片。新設計的三片式可拆卸工藝腔體可實現(xiàn)良好的工藝 均勻性和重復性，設備也可用于清洗和旋干工藝。 UNIXX S 30 D的落地式柜體經(jīng)專門設計，方便操作和維修。它是一款手動顯影機，適 用于實驗室開展科學研究和技術開發(fā)。設備具有多選項（例如可編程流體輸送臂）并且 可以升級成自動化 產(chǎn)品型號：UNIXX S 30 D 所在地：武漢市 更新時間：2024-05-17 |
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UNIXX S 20 D顯影機 簡單介紹：UNIXX S 20 D 顯影機是應用于顯影工藝的設備，適用的基板尺寸最大到8英寸的圓片 和最大到6英寸x6英寸的方片。新設計的三片式可拆卸工藝腔體可實現(xiàn)良好的工藝均勻 性和重復性，設備也可用于清洗和旋干工藝。 UNIXX S 20 D的落地式柜體經(jīng)專門設計，方便操作和維修。它是一款手動顯影機，適 用于實驗室開展科學研究和技術開發(fā)。設備具有多選項（例如可編程流體輸送臂）并且 可以升級成自動化的系統(tǒng) 產(chǎn)品型號：UNIXX S 20 D 所在地：武漢市 更新時間：2024-05-17 |
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LCS半自動旋涂顯影刻蝕機 簡單介紹：LCS專為晶圓和平面基片的半自動旋涂和開發(fā)而設計，將是試點項目、研究所和研發(fā)的*。 它保證了高均勻性和可重復性以及簡單的操作和維護。 它可以處理最大 150 毫米的晶圓或最大 125x125 毫米的方形基片。 產(chǎn)品型號：LCS 所在地：武漢市 更新時間：2024-05-17 |
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SCS112/SCSe124/SCSe126濕法顯影掩膜版清洗系統(tǒng) 簡單介紹：SCS112型是一款高效率手動型的濕法顯影掩膜版清洗系統(tǒng)，專門設計用于在劃片或劃片后清洗晶片，針對8英寸晶圓片。SCSe124/126型是用于光掩模，晶圓和基材的亞微米級清潔的理想解決方案，針對10英寸晶圓片。 產(chǎn)品型號：SCS112/SCSe124/SCSe126 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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CESx124UltraT進口濕法刻蝕和剝離系統(tǒng) 簡單介紹：UltraT進口濕法刻蝕和剝離系統(tǒng)專為滿足當今晶圓、光掩模和基板的前沿應用的特殊工藝需求而設計。這款高效的蝕刻和清潔系統(tǒng)CESx124、126、128或133是理想選擇，可滿足不同大小尺寸的晶片、光掩模和襯底，不論是從小直徑還是非常大直徑。 產(chǎn)品型號：CESx124 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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WS-1000MLaurell-WS半導體濕法刻蝕系列 簡單介紹：自1985年起，Laurell公司向遍布所有的生物化工和半導體材料科研領域的實驗室提供表面涂敷工藝的解決方案，目前，*有超過15000套系統(tǒng)正在安全運行。WS-1000M Laurell-WS半導體濕法刻蝕系列，全白色聚丙烯構(gòu)造，可內(nèi)置任何Laurell公司的旋涂機及顯影機，排放簡便的入氮口和DI噴頭，如果需要單工的系統(tǒng)，可選擇WS-1000濕法刻蝕設備，WS-1000系列旋轉(zhuǎn)處理濕法設備可以 產(chǎn)品型號：WS-1000M 所在地：北京市 更新時間：2024-05-16 |
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WS-1000Laurell 濕法刻蝕設備 簡單介紹：自1985年起，Laurell 濕法刻蝕設備是生物化工和半導體材料科研領域的實驗室提供表面涂敷工藝的解決方案，目前，*有超過15000套系統(tǒng)正在安全運行。 產(chǎn)品型號：WS-1000 所在地：北京市 更新時間：2024-05-16 |
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EDC-650Hz-23NPPBLaurell-EDC勻膠顯影機 簡單介紹：Laurell-EDC勻膠顯影機系列勻膠顯影系統(tǒng)適用于半導體前段制程的勻膠，顯影，刻蝕，沖洗，甩干等工藝，可通過程序控制多路試劑的顯影和濕法腐蝕，我們有著近三十年半導體濕法工藝的經(jīng)驗積累，通過對各路試劑注射的控制，對氮氣和去離子水綜合應用，能夠完整實現(xiàn)樣片的干進干出。是當今*和經(jīng)濟的濕法處理解決方案。 產(chǎn)品型號：EDC-650Hz-23NPPB 所在地：北京市 更新時間：2024-05-16 |
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EDC-650Hz-8NPPBLaurell勻膠顯影機EDC 簡單介紹：Laurell勻膠顯影機EDC產(chǎn)于美國，是原裝的濕法刻蝕設備美國Laurell,Inc總部位于美國賓夕法尼亞，成立于1985年，是一家專業(yè)提供化工半導體材料清潔涂敷處理等特殊工藝的公司。公司擁有EDC-650Mz-23NPP/EDC-650Hz-8NPP等各類顯影系統(tǒng)，目前客戶已遍布。還有WS-1000濕法刻蝕設備，WS-1000m濕法刻蝕設備等多種半導體濕制成設備。 產(chǎn)品型號：EDC-650Hz-8NPPB 所在地：北京市 更新時間：2024-05-16 |
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EDC-650Hz-23NPPBEDC濕法刻蝕顯影機 簡單介紹：EDC濕法刻蝕顯影機適應于半導體、化工材料、硅片、晶片、基片、導電玻璃等工藝，制版的表面顯影。 產(chǎn)品型號：EDC-650Hz-23NPPB 所在地：北京市 更新時間：2024-05-16 |
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